Publications 2015

MOCVD of TiO₂ thin films from a modified titanium alkoxide precursor
S. J. Kim, V. S. Dang, K. Xu, D. Barreca, C. Maccato, G. Carraro, R. K. Bhakta, M. Winter, H.-W. Becker, D. Rogalla, C. Sada, R. A. Fischer, A. Devi,
Phys. Stat. Solidi (a) 2015, 212, 1563

Metal-organic CVD of Y₂O₃ Thin Films using Yttrium tris-amidinates
S. Karle, V.-S. Dang, M. Prenzel, D. Rogalla, H.-W. Becker and A. Devi,
Chem. Vap. Dep. 2015, 10-11-12, 335